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基底材料：熔石英 或K9
透射波前：PV≤λ/8 @632.8nm
表面質(zhì)量（S/D）：40/20
損傷閾值：≥20J/cm2 @ 1053nm, 10ns
532 & 1064透鏡
ITO圖形化元器件
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